主要技术指标

X射线光电子能谱仪（XPS）主要用于材料表面（10nm）元素化学分析级元素化学价态分析。配以氩离子溅射枪，可以开展材料深度剖析，获得元素及元素价态随深度变化的分布。XPS目前可广泛应用于能源、生物医药、钢铁、无机非金属材料、半导体金属材料、半导体器件、有机高分子材料的表面分析和结构解析。

主要功能/应用范围

1.单色化X光源：单一靶面的水冷Al/Ag双阳极，最大功率600W（加速电压15kV，最大发射电流40mA），单色器罗兰圆500mm； 2. Al单色XPS（Ag 3d5/2 峰半高全宽@强度）：0.45eV@160kcps；大束斑能量分辨和灵敏度0.6eV@2.5Mcps； 3.选择性分析区域束斑大小：15μm至大束斑（φ200μm以上）包含较大束斑（100～120μm），中等束斑（60～60μm）和小束班（15～20μm）； 4.能量扫描范围：-10～3200eV； 5.荷电中和器绝缘体分析能力（PET O-C=O的C 1s峰半高全宽@C-C/C-H的C 1s峰强度）：0.68eV@20kcps； 6.电子能谱能量分析器：平均半径165mm，通过能（FAT/CAE模式）1～400eV可调； 7.深度剖析离子枪：包含单离子刻蚀和团簇刻蚀，单离子模式，可是能量500eV～5keV连续可调；托粗模式：刻蚀能量≥10keV，团簇中离子数目500～3000个；离子源类型：单个Ar原子和团簇Ar双模式。

服务内容

无

服务的典型成果

无

对外开放共享规定

无

参考收费标准

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