最新公告：
单位
高真空磁控溅射薄膜沉积系统
仪器名称：高真空磁控溅射薄膜沉积系统
规格型号：TRP450
分 类：其他仪器
应用领域：自然科学相关工程与技术
所属单位：河北省科学院机关
产 地：中国
厂 商：定制
价 值：96.9万
购置日期：2023-12-19
使用状态：
共享模式： 外部共享
资源信息
主要技术指标
极限真空度：≤8x10-6Pa，2英寸磁控溅射靶，配备射频溅射电源和清洗电源，样品最高温度800℃。
主要功能/应用范围
薄膜沉积
服务内容
实验分析
服务的典型成果
—
对外开放共享规定
实时对外共享
参考收费标准
按需求核算工作量进行收费。
联系信息
| 仪器联系人： | 安晓明 | 联系电话： | 83018057 |
| 电子邮箱： | 1411459079@qq.com | 传 真： |
评价信息