主要技术指标

极限真空度（Pa）（经烘烤除气后）：5X10上标-5 系统真空检漏漏率（PaL/S）：5.0X10上标-7 系统经大气抽气，40分钟可以达到（Pa）：6.6X10上标-4 停泵关机12小时后真空度（Pa）：≤5Pa

主要功能/应用范围

可以用于在高真空背景下，充入高纯氩气，采用磁控溅射方式制备各种金属膜、介质膜、半导体膜，而且又可以较好地溅射铁磁材料（Fe、Co、Ni），制备磁性薄膜。在镀膜工艺条件下，采用微机控制样品转盘，既可以制备单层膜，又可以制备多层膜，为新材料和薄膜科学研究领域提供了十分理想的研究手段。

服务内容

玻璃镀膜

服务的典型成果

无

对外开放共享规定

无

参考收费标准

可咨询