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脉冲激光沉积和磁控溅射复合系统

仪器名称:脉冲激光沉积和磁控溅射复合系统

规格型号:K14-494

分  类:其他

应用领域:物理学  

所属单位:河北大学

产  地:中国

厂  商:中科院沈阳科学仪器股份有限公司

价  值:90万

购置日期:2014-11-03

使用状态:

共享模式: 不共享

资源信息

主要技术指标

最大真空度5*10^-7Pa,两腔室

主要功能/应用范围

生长纯净的半导体能量转换薄膜材料。

服务内容

能量转换薄膜材料的制备。

服务的典型成果

对外开放共享规定

不共享

参考收费标准

联系信息
仪器联系人: 王淑芳 联系电话: 0312-5079354
电子邮箱: phd-lzl@hbu.edu.cn 传  真:
评价信息